能否追上，只能靠bc光刻机半导体研究院的科技人员了！

重生者要是将c的专利技术偷偷的拿过来送给bc，就等着坐牢！

重生者不想当英雄，更不愿意当烈！

死过一次的人将名誉地位看得很澹。

与家人和朋友享受生活才是重生后最大的愿望！

c重获新生，不仅bc获利，重生者也能在瓦纳协定出台之前，有机会引进一条8英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线……

去年底，c在研制适合8英寸晶圆和500制程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套　生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500，达到350。

意外惊喜！

这款8英寸晶圆和350制程工艺的光刻机，被命名为c3500光刻机。

c3500光刻机追上了ko3500光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了ko3500光刻机。

c3500光刻机突破了困扰了制程工艺光刻机的瓶颈！

孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请tc专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，c3500光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观c3500光刻机样机。

由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的tc，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。

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