国软件市场。

美国曙光投资公司（ati）控股的ga成了同尼康半导体公司并驾齐驱的光刻机龙头企业，研发的90n制程工艺光刻机已经量产，但在65n制程工艺上都遇到了无法克服的困难。

尼康光刻机研究院和ga光刻机研究院采用arf193n光源，研发一年多，毫无进展。

业界普遍认为193n光刻无法延伸到65n制程工艺，而157n将成为主流光源技术，但157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。

业界对下一代光刻机的发展提出了两种路线，一是以尼康和佳能等日本光刻机半导体企业，主张开发波长更低的157n的f2准分子激光做为光源；二是ga和英特尔发起建立了euv联盟，采用极紫外光源(euv)来提供波长更短的光源。

euv联盟中除了ga、英特尔和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、ad、ib，以及能源部下属三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。

ga光刻机半导体研究院院长兼任光刻机光源研究所所长汤普森院士从1993年7月开始研发euv，ga前后投资了15亿美元，也没有取得成功，1997年7月自动放弃了研究。

1997年10月，汤普森院士出面邀请英特尔和美国能源部共同开发euv。

前世，英特尔邀请尼康和a加入euv联盟，但美国政府反对尼康加入，a做出多重承诺后才得到这个千载难遇的机会，资金到位，技术入场，人才云集，euv联盟也花了近20年的时间，第一台可量产的aeuv样机才正式发布。

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