第一三章 光刻机的现状(上)(1 / 2)

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euv联盟的研发费用出资比例中,牵头的美国能源部出30%,inte和ga各出20%,tr、ib、it、ad和hp各出4%,irn和yer等其他33家科技企业和研究机构共出10%,今后享受的权利同出资比例相同。

ga需要出资的20%中,以前的euv研究成果折算15%。

ga这些年为了研发euv投资了15亿美元,取得了不少有关euv的研究成果,但离成功还有很远的距离,以ga一家之力很难完成,汤普森院长不得不放弃,出面邀请美国能源部和inte等光刻机和半导体产业的同行,美国能源部牵头成立了euv。

美国能源部的三家国家实验室、inte和yer等公司这些年也在研发euv,但远远落后在ga的后面,汤普森院士众望所归,成了euv联盟的t。

作为ga的法人兼董事长,孙健乐见其成。

光刻机公司迟迟不能攻克193n波长的世界级难题,65n制程工艺光刻机迟迟见不到身影,ga和nin着急,但最着急的是财大气粗的inte和ad,没有下一代光刻机,inte和ad研发的下一代pu只能成为研发成果,不能变成产品,不能上市,消费者将失去购买欲望,公司的销售和利润锐减,投资者用脚投票,股价下跌,市值减少,研发费用减少,研发受阻,会发生一系列连锁反应。

前世,由于迟迟不能攻克193n波长的世界级难题,光刻机制程工艺一直停留在90n,摩尔定律失效!直到2007年左右,a生产的世界第一台193n波长的浸没式光刻机问世,一举突破了90n制程工艺,65n、45n、32n、28n、20n、14n、10n……制程工艺越来越细,制造难度越来越大。

重生前,euv光刻机已经诞生,台积电已经宣布能生产7n制程工艺的芯片,全球光刻机公司就剩下a、nin、ann和沪海微电子(ee)等四家。

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「各位董事都知道,业界对下一代光刻机的发展提出了两条技术路线,据我所知,157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战,不是短时间能克服的;即使euv联盟在5年内研发成功euv,但euv光刻机量产还有很长的路要走,业界悲观预测,5年内看不到65n制程工艺光刻机问世,芯片的升级换代将会陷入停滞,受到美国经济下滑和65n制程工艺技术研发受阻的双重影响,半导体产业的快速发展也不可能继续延续。」

孙健一脸严肃,不是信口雌黄,也不是指点江山,准确预测光刻机产业和半导体产业未来的发展趋势,避免ga陷入被动,继续树立ga一把手的权威形象。

打算关门的ga能成为全球第一大光刻机公司,孙董事长的贡献第一,这是现场众董事的心声。

光刻机产业和半导体产业一荣俱荣,一损俱损。

要论对光刻机产业的现状和未来发展趋势的认识,作为全球第一大光刻机公司ga和第五大光刻机公司be的控股股东,还是全球第三大光刻机公司a的第二大股东,孙健拿到的第一手资料不是一般光刻机专家能比拟的,结合二世的知识积累,他称第二,没人敢称第一。

前世纳斯达克网络科技股泡沫破裂后,对电脑、服务器、程控交换机和路由器等产品的需求骤降,产品供过于求,大量积压,公司破产,经济下滑,美国gdp陷入负增长,美国感冒,全球打喷嚏,半导体产业陷入衰退周期。

由于芯片产能过剩,产品供过于求,价格下跌,销售额随之下跌,in

te、ib、it、ad、hp自有的晶圆厂陷入严重亏损,除了inte和ad财大气粗外,其他三家逐渐放弃了传统的芯片研发、生产和封测一条龙模式,将芯片生产委托给台积电和三星电子代工,台积电成为了最大的受益者,前世占据全球近50%的芯片生产份额。

「孙先生,全球半导体产业会陷入衰退吗?」

来自ad的董事阿尔特曼听出孙健的话里有话,举手提问。

孙董事长的预测到如今还没有错过,众人神色严肃,连连点头,阿尔特曼的提问引起了共鸣。

「阿尔特曼先生,全球半导体产业也是一个周期性产业,这轮半导体产业的繁荣周期从1998年第3季度开始,一直到如今还在增长,按照半导体产业的发展规律,二年左右就是一个周期轮换,专家预测今年第4个季度就会陷入衰退,进入衰退周期。」

阿尔特曼是德裔美国人,孙健不担心他们将这些坏消息散布出去,会影响美国光刻机和半导体产业的历史进程,这些来自其他公司的董事都不是公司最高决策者!他们去年都投资25亿美元(包括基建费用)从ga订购了一条12英寸晶圆、90n制程工艺的半导体生产线,预计今年10月左右将要试生产,产能剧增,一旦没有足够的芯

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